Публикация №15713(БАЛЛЫ 40)
| Название публикации | Investigation of BiFeO3/HfO2 gate stack for ferroelectric field effect transistors in IOT applications |
|---|---|
| Название на другом языке | |
| Тип публикации | Статья |
| Издание | Journal of Materials Science: Materials in Electronics |
| Издатель | Не задан |
| ISBN | Не задан |
| DOI | 10.1007/s10854-021-06737-1 |
| Год издания | 2021 |
| Том | 32 |
| Номер | 17 |
| Глава | Не задан |
| Страницы | 22517-22526 |
| Аннотация | Не задан |
| Авторы | |
| ссылка в Internet | |
| РИНЦ | 0 |
| WoS | 0 |
| Баллы | 40 |
| Цитируемые публикации авторов ФИЦ ИУ РАН |
